很少有研究者關注電解池的槽壓，這是因為大部分電解池體系都是基于導電性較好的水溶液體系或者是兩電極系統。然而，當電流較大、電解液電導率較低又或者輔助電極被多孔陶瓷隔開時，參比電極和輔助電極之間的電壓降會非常顯著，槽壓就成了一個非常重要的參數。

如上圖所示：在一個三電極體系中，電流是在工作電極W和輔助電極C之間流動，測量的電壓是工作電極W與參比電極R之間的電勢差，而工作電極W與輔助電極C之間的電壓稱為槽壓。假設圖片所示電流為10mA，此時測量電壓為10V，而槽壓卻高達60V。如果電化學工作站的槽壓不夠高，那么它將無法施加所指定的電壓或者電流。

電化學工作站測試中的那些*高壓

例如下圖中：Joffrey1為了研究Al?Cu?Fe 和 MgZn?在硫酸溶液中的腐蝕行為，其極化電壓就高達20V，而其槽壓將*過20V。

而Rocca2等為了研究鎂合金微弧氧化的過程，更是將施加電壓從0V掃描到80V（如下圖）。

*近也有不少電催化的研究體系，由于樣品電流密度較大，在H型電解池里槽壓可以高達30V以上。其他高槽壓體系還包括鋼筋混凝土、有機溶液電化學和電池堆。

[1] Rocca J . Electrochemical behavior of intermetallic phases in sulfuric acid at high voltage – anodization of Al7Cu2Fe and MgZn2 phase.

[2] Rocca et al, In-situ electrochemical characterization of “discharges initiation” during micro-arc oxidation of Mg alloys.

[3] Sarah et al, RSC Adv., 2019,9, 29305-29311